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吉致電子拋光材料 源頭廠家
25年 專注CMP拋光材料研發(fā)與生產(chǎn)

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[應(yīng)用案例]Sic Slurry 吉致電子碳化硅晶圓拋光液[ 2023-04-11 11:07 ]
  吉致電子碳化硅精拋液,適用于Sic碳化硅晶圓襯底精密加工表面平坦化。wafer使用的Slurry具有高度拋光、低粗糙度的特點(diǎn),SiC碳化硅襯底拋光液拋光后的晶圓表面無劃傷、霧等缺陷,碳化硅晶片平坦度高。吉致電子研發(fā)的碳化硅拋光液稀釋比高、拋光后表面易清洗,被廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體集成電路襯底的制造中。  吉致電子SiC Slurry wafer拋光液具有很好的流動性和分散性,不易結(jié)晶、易清洗、拋光效率高等優(yōu)點(diǎn),可以滿足碳化硅晶片的精拋加工要求,也可根據(jù)客戶工藝調(diào)整做定制化硅晶圓(si wafer)
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[吉致動態(tài)]硅溶膠研磨液--精密工件鏡面拋光效果秘密[ 2023-01-06 13:52 ]
  吉致電子硅溶膠研磨液/拋光液采用的是納米級工藝,主要粒徑在10-150nm。適用于各種材質(zhì)工件的CMP表面鏡面處理。以硅溶膠漿料為鏡面的平面研磨的材料有半導(dǎo)體晶圓、光學(xué)玻璃、3C電子金屬元件、藍(lán)寶石襯底、LED顯示屏等高精密元件。  硅溶膠拋光液也稱二氧化硅拋光液、氧化硅精拋液,SiO2是硅溶膠的化學(xué)名,適用范圍已擴(kuò)展到半導(dǎo)體產(chǎn)品的CMP拋光工藝中。  CMP拋光機(jī)可以將氧化硅研磨液循環(huán)引入磨盤,同時起到潤滑和冷卻的作用,通過拋光液和拋光墊組合拋磨可以使工件表面粗糙度達(dá)到0.2um
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[常見問題]3C鏡面拋光液用什么拋光液[ 2022-12-09 16:18 ]
  3C產(chǎn)品表面鏡面拋光一般不采用電解拋光方式,而是選擇CMP機(jī)械拋光工藝。SiO2拋光液用于3C工件的鏡面拋光工藝,主要由納米級磨料制備而成,規(guī)格一般在10nm-150nm拋光后的產(chǎn)品鏡面精度高,表面收光細(xì)膩。  氧化硅精拋液進(jìn)行精拋工藝后,工件可以從霧面提升到鏡面透亮的效果。拋光液配合精拋皮使用,鏡面效果檢測可達(dá)納米級。3C金屬拋光液用于鏡面要求較高的工件拋光,因此必須做好前道工序。先粗拋打好基礎(chǔ),再精拋去除缺陷和不良效果。  有客戶使用二氧化硅拋光液后工件表面會產(chǎn)生麻點(diǎn),這是由于
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[吉致動態(tài)]吉致電子淺槽隔離拋光液怎么用[ 2022-10-31 16:47 ]
  吉致電子淺槽隔離拋光液適用范圍:單晶硅、多晶硅的研磨拋光,存儲器制程和背照式傳感器(BSI)制程等。  STI Slurry 適用于集成電路當(dāng)中的銅互連工藝制程中銅的去除和平坦化。具有高的銅去除速率,碟型凹陷可調(diào),低缺陷等特性。可應(yīng)用于邏輯芯片以及3D NAND和DRAM芯片等量產(chǎn)使用。清除集成電路中銅拋光后表面的拋光顆粒和化學(xué)物殘留,以防銅表面腐蝕,降低表面缺陷。  可定制選擇穩(wěn)定的選擇比,去除速率,對氧化物/氮化物的選擇比。硅精拋液系列具有低缺陷的優(yōu)點(diǎn)。BS
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[吉致動態(tài)]氧化硅拋光液的結(jié)晶問題[ 2022-08-12 13:25 ]
  氧化硅拋光液長時間暴露在空氣中,會使水分蒸發(fā)剩下固體氧化硅,造成硅晶體析出現(xiàn)象,稱之為結(jié)晶。在實(shí)際應(yīng)用時,硅溶膠拋光液會一直在磨盤內(nèi)旋轉(zhuǎn)循環(huán)及流動,結(jié)晶現(xiàn)象較少,但是高溫或拋光液濃度沒有配置好,會造成團(tuán)聚,損傷工件,影響拋光效果。根據(jù)二氧化硅的特性,吉致電子拋光液廠家開發(fā)了抗結(jié)晶納米二氧化硅拋光液,可以長時間保持氧化硅穩(wěn)定液體狀態(tài)。拋磨工件時易搖散且不團(tuán)聚,化學(xué)性能穩(wěn)定分散均勻,氧化硅精拋液拋光效率高,能有效縮短工時,磨拋后工件呈現(xiàn)鏡面效果,無劃傷、高平坦。  外需要注意的是,氧化硅拋光液的
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