CMP金剛石懸浮液/研磨液的特點(diǎn)及應(yīng)用
吉致電子金剛石研磨液產(chǎn)品特點(diǎn):
(1)磨料類型多樣化,包含單晶、多晶、類多晶及納米級金剛石等;
(2)金剛石懸浮液包含水性、油性及乳化型;
(3)金剛石研磨液粘度可調(diào)整,包含低粘度、中等粘度和高粘度;
吉致電子金剛石懸浮液/研磨液應(yīng)用領(lǐng)域:
1、半導(dǎo)體晶片拋光液CMP加工:藍(lán)寶石襯底、碳化硅、氮化鎵等半導(dǎo)體晶片;
2、拋光液陶瓷加工:陶瓷指紋識別片、氧化鋯陶瓷手機(jī)后殼及其它功能陶瓷;
3、拋光液用于金屬材料加工:不銹鋼、鋁合金、鈦合金、合金銅及其它金屬材料。
吉致電子CMP拋光液研發(fā)生產(chǎn)廠家,產(chǎn)品質(zhì)量和效果媲美進(jìn)口slurry,CMP拋光液粒度規(guī)格可根據(jù)客戶要求定制。
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