- [行業(yè)資訊]拋光液廠家--CMP拋光液用于幾代半導(dǎo)體材料?[
2023-02-17 15:50
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CMP拋光液用于幾代半導(dǎo)體材料? CMP拋光液越來越多的應(yīng)用于第三代半導(dǎo)體材料的拋光,科研方向朝著攻克拋光液技術(shù)門檻和市場(chǎng)壁壘發(fā)展。CMP工藝的集成電路比例在不斷增加,對(duì)CMP材料種類和用量的需求也在增加。更先進(jìn)的邏輯芯片工藝可能會(huì)要求拋光新的材料,為CMP拋光材料帶來了更多的增長(zhǎng)機(jī)會(huì)。 目前,第三代半導(dǎo)體材料主要以碳化硅(SiC)、氮化鎵(GaN)、氧化鋅(ZnO)、金剛石、氮化鋁(AlN)為代表的寬禁帶半導(dǎo)體材料。這代半導(dǎo)體具有更寬的禁帶寬度、更高的導(dǎo)熱率、更高的抗輻射能力
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http://m.5minute-ebook.com/Article/pgycjcmppg_1.html
- [行業(yè)資訊]納米氧化硅拋光液的特點(diǎn)[
2022-11-18 16:10
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納米二氧化硅拋光液由高純納米氧化硅SiO2等多種復(fù)合材料配置而成,通過電解法或離子交換法制備成納米拋光液,硅拋光液磨料分散性好,具有高強(qiáng)度、高附著力、成膜性好、高滲透、高耐候性、高耐磨性等特點(diǎn),是一種性能優(yōu)良的CMP拋光材料。廣泛應(yīng)用于金屬或半導(dǎo)體電子封裝拋光工藝中。吉致電子硅拋光液,CMP拋光slurry應(yīng)用范圍:1、可用于微晶玻璃的表面拋光加工中。2、用于硅片的粗拋和精拋以及IC加工過程,適用于大規(guī)模集成電路多層化薄膜的平坦化加工。3、用于晶圓的后道CMP清洗等半導(dǎo)體器件的加工過程、平面顯示器、多
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http://m.5minute-ebook.com/Article/nmyhgpgydt_1.html
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