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吉致電子拋光材料 源頭廠家
25年 專注CMP拋光材料研發(fā)與生產(chǎn)

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[行業(yè)資訊]納米拋光液---吉致電子氧化硅slurry的應(yīng)用及特點(diǎn)[ 2024-10-10 16:56 ]
  吉致電子納米級(jí)氧化硅拋光液是以高純度硅粉為原料,經(jīng)特殊工藝生產(chǎn)的一種高純度低金屬離子型CMP拋光產(chǎn)品。粒度均一的SiO2磨料顆粒在CMP研磨過程中分散均勻,能達(dá)到快速拋光的目的且不會(huì)對(duì)加工件造成物理?yè)p傷。納米級(jí)硅溶膠拋光液不易腐蝕設(shè)備,提高了使用的安全性。制備工藝和配方有效提高了平坦化加工速率,快速降低表面粗糙度,且工件表面劃傷少。  吉致電子氧化硅slurry粒徑分布可控,根據(jù)不同的拋光需求,生產(chǎn)出不同粒徑大小的納米氧化硅拋光液,粒徑范圍通常在 5-100nm 之間。以氧化硅為磨料的納米拋
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[行業(yè)資訊]藍(lán)寶石襯底研磨用什么拋光液[ 2023-08-25 13:36 ]
  CMP工藝怎么研磨藍(lán)寶石襯底?需要搭配什么拋光液?藍(lán)寶石拋光萬能公式:粗拋、中拋、精拋,每道工序使用不同磨料的拋光液和拋光PAD:①藍(lán)寶石CMP粗磨:藍(lán)寶石襯底粗磨可以選擇硬度高切削力強(qiáng)的吉致金剛石研磨液,搭配金剛石磨盤,速率高效果好可有效去除藍(lán)寶石表面的不平和劃痕。②藍(lán)寶石CMP中拋:這一步可以用銅盤+小粒徑的金剛石研磨液,用來去除粗拋留下的紋路,為鏡面拋光做前期準(zhǔn)備。③藍(lán)寶石CMP精拋:CMP精拋是藍(lán)寶石襯底最后一道工序,需要用到拋光墊+納米氧化硅拋光液來收光,呈現(xiàn)平坦無暇的鏡面效果。 
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[行業(yè)資訊]納米氧化硅拋光液的特點(diǎn)[ 2022-11-18 16:10 ]
  納米二氧化硅拋光液由高純納米氧化硅SiO2等多種復(fù)合材料配置而成,通過電解法或離子交換法制備成納米拋光液,硅拋光液磨料分散性好,具有高強(qiáng)度、高附著力、成膜性好、高滲透、高耐候性、高耐磨性等特點(diǎn),是一種性能優(yōu)良的CMP拋光材料。廣泛應(yīng)用于金屬或半導(dǎo)體電子封裝拋光工藝中。吉致電子硅拋光液,CMP拋光slurry應(yīng)用范圍:1、可用于微晶玻璃的表面拋光加工中。2、用于硅片的粗拋和精拋以及IC加工過程,適用于大規(guī)模集成電路多層化薄膜的平坦化加工。3、用于晶圓的后道CMP清洗等半導(dǎo)體器件的加工過程、平面顯示器、多
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[吉致動(dòng)態(tài)]吉致電子納米氧化硅拋光液的特點(diǎn)[ 2022-08-19 15:29 ]
吉致電子納米氧化硅拋光液的特點(diǎn):1,可提高工件拋光速率和平坦度加工質(zhì)量,氧化硅拋光液采用高純納米二氧化硅(SiO2)磨料及多種復(fù)合材料配置而成,不會(huì)對(duì)工件造成物理?yè)p傷,拋光率高。2,利用均勻分散的膠體二氧化硅粒子顆粒達(dá)到高速拋光的目的。3,硅溶膠純度高,拋光液不腐蝕設(shè)備,無毒無害使用安全性能高。4,可實(shí)現(xiàn)高平坦化加工。5,有效減少拋光后的表面劃痕,降低表面粗糙度。吉致電子通過科學(xué)工藝分散均勻的氧化硅顆粒,得到均勻分散的納米拋光液,具有高強(qiáng)度、高附著力、成膜性好、高滲透、高耐磨性等特點(diǎn),是一種性能優(yōu)良的CMP技術(shù)用的
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