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晶圓拋光液--磷化銦Inp Slurry CMP拋光液
磨料類型:SiO2/Al2O3/CeO2/ZrO2
磨料粒徑:專利化學(xué)配方/可定制
磷化銦InP拋光液/Slurry·參數(shù)吉致電子,CMP拋光材料 可定制·速率高·效果好·專利配方CUSTOMIZABLE, HIGH SPEED, GOOD EFFECT AND PATENTED FORMULA
產(chǎn)品名稱:磷化銦晶圓拋光液/InP Slurry/CMP化學(xué)機械拋光/半導(dǎo)體拋光液
產(chǎn)品簡介:為半導(dǎo)體行業(yè)/光學(xué)行業(yè)調(diào)配的磷化銦InP拋光液/CMP Slurry組合漿料,適用于磷化銦晶圓的坦化加工。設(shè)計滿足從研磨到CMP的襯底制造的各個工藝階段的規(guī)范,在磷化銦晶圓拋光應(yīng)用中提供了高性能和低成本的解決方案。
吉致電子CMP磷化銦研磨液/拋光液特點——
1.配方設(shè)計滿足從研磨到CMP的襯底制造的各個工藝階段的規(guī)范,用于磷化銦晶圓的快遞減薄和拋光。
3.實現(xiàn)InP表面高去除率,無亞表面損傷,并提供出色的穩(wěn)定性,可循壞使用。
4.吉致電子藍寶石Slurry拋光液組合可提供性能佳且具有成本效益的解決方案。
5.可根據(jù)拋磨要求1V1提供定制解決方案。
吉致電子磷化銦InP Slurry應(yīng)用
為光學(xué)表面提供高光潔度
拋光相關(guān)類型的表面(研磨或機械拋光)以實現(xiàn)納米級光滑的表面光潔度
吉致電子磷化銦研磨液/InP晶圓拋光液 廣泛應(yīng)用于CMP領(lǐng)域,包括Lapping機、五軸機臺、以及其他研磨拋光機臺等
磷化銦CMP拋光液拋光過程中具有:
吉致電子磷化銦拋光液滿足不同工藝階段的規(guī)范,
從我們的優(yōu)化解決方案能實現(xiàn)高去除率,無亞表面損傷,同時提供優(yōu)異的穩(wěn)定性。
1.貯存時應(yīng)避免曝曬,貯存溫度為5-35℃
2.低于0℃以上儲存,防止結(jié)冰,在無度以下因產(chǎn)生不可再分散結(jié)塊而失效。
3.避免敞口長期與空氣接觸。
吉致電子CMP拋光液/Slurry拋光液價格:
吉致電子的CMP金屬拋光液生產(chǎn)技術(shù)是引進國外生產(chǎn)技術(shù)和設(shè)備,特殊化學(xué)配方制備而成。吉致電子拋光液品質(zhì)可以媲美進口同類產(chǎn)品。
本土化生產(chǎn)的優(yōu)勢使吉致電子CMP拋光液產(chǎn)品交貨周期快,品質(zhì)好,拋光液價格實惠親民。
吉致電子CMP拋光耗材適用范圍
吉致電子科技有限公司擁有成熟的加工工藝和先進的生產(chǎn)設(shè)備,為不銹鋼、銅、鋁、塑膠、陶瓷、導(dǎo)光板、五金產(chǎn)品、藍寶石、光學(xué)玻璃等各類拋光加工服務(wù)。為您提供可靠有效的拋光解決方案!
吉致電子研發(fā)團隊--15年經(jīng)驗CMP拋光液配方工程師,為您攻克拋光難題!
無錫吉致電子科技有限公司
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