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半導體拋光液 藍寶石拋光液/研磨液
磨料類型:SiO2/Al2O3/CeO2/ZrO2
磨料粒徑:專利化學配方/可定制
藍寶石拋光液/研磨液·參數(shù)吉致電子,CMP拋光材料 可定制·速率高·效果好·專利配方CUSTOMIZABLE, HIGH SPEED, GOOD EFFECT AND PATENTED FORMULA
產品名稱:藍寶石研磨液/藍寶石LED襯底拋光液/Sapphire Slurry/CMP化學機械拋光/液藍寶石A向拋光液/藍寶石C向拋光液
產品簡介:為半導體行業(yè)/光學行業(yè)調配的藍寶石研磨液/藍寶石LED襯底拋光液/Sapphire Slurry組合漿料,適用于藍寶石基片、外延片、LED的平坦化加工。設計滿足從研磨到CMP的襯底制造的各個工藝階段的規(guī)范,在藍寶石基片拋光應用中提供了高性能和低成本的解決方案。
吉致電子CMP藍寶石研磨液/拋光液特點——
1.用于大規(guī)模制造藍寶石晶片的高性能漿料。
2.配方設計滿足從研磨到CMP的襯底制造的各個工藝階段的規(guī)范,用于取向的藍寶石晶圓,即C向、A向、R向拋光。
3.實現(xiàn)高去除率,無亞表面損傷,并提供出色的穩(wěn)定性,可循壞使用。
4.吉致電子藍寶石Slurry拋光液組合可提供性能佳且具有成本效益的解決方案。
6.可根據(jù)拋磨要求1V1提供定制解決方案。
吉致電子藍寶石漿料Sapphire Slurry應用
為光學表面提供高光潔度
拋光相關類型的表面(研磨或機械拋光)以實現(xiàn)原子級光滑的表面光潔度
吉致電子藍寶石研磨液/藍寶石LED襯底拋光液 廣泛應用于CMP領域,包括Lapping機、五軸機臺、以及其他研磨拋光機臺等
藍寶石襯底拋光液拋光過程中具有:
吉致電子藍寶石拋光液設計滿足從藍寶石研磨到CMP的襯底制造藍寶石A向、C向拋光等不同工藝階段的規(guī)范,
從我們的優(yōu)化解決方案能實現(xiàn)高去除率,無亞表面損傷,同時提供優(yōu)異的穩(wěn)定性。
吉致電子藍寶石LED拋光液/Sapphire Slurry拋光液儲存方法:
1.貯存時應避免曝曬,貯存溫度為5-35℃
2.低于0℃以上儲存,防止結冰,在無度以下因產生不可再分散結塊而失效。
3.避免敞口長期與空氣接觸。
吉致電子CMP拋光液/Slurry拋光液價格:
吉致電子的CMP金屬拋光液生產技術是引進國外生產技術和設備,特殊化學配方制備而成。吉致電子拋光液品質可以媲美進口同類產品。
本土化生產的優(yōu)勢使吉致電子CMP拋光液產品交貨周期快,品質好,拋光液價格實惠親民。
吉致電子CMP拋光耗材適用范圍
吉致電子科技有限公司擁有成熟的加工工藝和先進的生產設備,為不銹鋼、銅、鋁、塑膠、陶瓷、導光板、五金產品、藍寶石、光學玻璃等各類拋光加工服務。為您提供可靠有效的拋光解決方案!
吉致電子研發(fā)團隊--15年經驗CMP拋光液配方工程師,為您攻克拋光難題!
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