吉致電子研發(fā)的拋光液產品廣泛應用于金屬、光電、集成電路半導體、陶瓷、硬盤、面板顯示器等材質表面的深度處理。吉致電子CMP拋光耗材產品可廣泛應用于各種CMP領域，包括Lapping機臺、五軸機臺、單面拋光機、雙面拋光機等其他研磨拋光機臺設備。

  拋光液升級配方可用于半導體行業(yè)硅片硅襯底減薄、碳化硅襯底拋光、藍寶石襯底拋光。針對性更強的拋光液產品如阻擋層化學機械拋光液，鎢化學機械拋光液以及介質層化學機械拋光液、淺槽隔離化學機械拋光液、用于3D封裝TSV化學機械拋光液可詳細咨詢。拋光液的特點是不傷機臺和工件，液體分散性好，提高拋光速率改善工件表面質量，易清洗無殘留。

吉致電子科技25年研發(fā)經驗，實力拋光液生產廠家，可按客戶要求調整改良配方，提高工件拋磨效果。

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