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25年 專注CMP拋光材料研發(fā)與生產

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吉致電子CMP拋光液適用設備有哪些?

文章出處:責任編輯:人氣:-發(fā)表時間:2022-08-23 16:48【

  吉致電子研發(fā)的拋光液產品廣泛應用于金屬、光電、集成電路半導體、陶瓷、硬盤、面板顯示器等材質表面的深度處理。吉致電子CMP拋光耗材產品可廣泛應用于各種CMP領域,包括Lapping機臺、五軸機臺、單面拋光機、雙面拋光機等其他研磨拋光機臺設備。

吉致電子 CMP拋光液適用設備

  拋光液升級配方可用于半導體行業(yè)硅片硅襯底減薄、碳化硅襯底拋光、藍寶石襯底拋光。針對性更強的拋光液產品如阻擋層化學機械拋光液,鎢化學機械拋光液以及介質層化學機械拋光液、淺槽隔離化學機械拋光液、用于3D封裝TSV化學機械拋光液可詳細咨詢。拋光液的特點是不傷機臺和工件,液體分散性好,提高拋光速率改善工件表面質量,易清洗無殘留。

吉致電子科技25年研發(fā)經驗,實力拋光液生產廠家,可按客戶要求調整改良配方,提高工件拋磨效果。

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